基于AOI系统的量测精度评估方法、缺陷标准片、设备及介质

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推荐专利
基于AOI系统的量测精度评估方法、缺陷标准片、设备及介质
申请号:CN202511397494
申请日期:2025-09-28
公开号:CN120870152A
公开日期:2025-10-31
类型:发明专利
摘要
本发明涉及半导体缺陷检测技术领域,尤其涉及一种基于AOI系统的量测精度评估方法、缺陷标准片、设备及介质,通过获取AOI系统检测缺陷标准片得到的量测偏位结果,其中,量测偏位结果包括偏位映射图和偏位分布直方图,缺陷标准片包括多个按照预设规则排列的矩形阵列单元,且各矩形阵列单元包含至少一个预设位置缺陷,将偏位映射图中的实测偏移数据与预设目标偏移数据进行对比,得到对比结果,并判断偏位分布直方图中的不同偏移量对应的高斯峰是否满足预设分布条件,得到判断结果,根据对比结果和判断结果,确定精度评估结果,从而能够实现对AOI系统的量测精度进行精准评估,以填补新型显示行业内对于阵列目标偏位缺陷检测精度标准的空白。
技术关键词
AOI系统 精度评估方法 分布直方图 检测缺陷 半导体缺陷检测 阵列 像素 坐标 矩形 偏位缺陷 边缘检测算法 标定关系 可读存储介质 图像 数据 处理器 图样 复合结构 基底
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沪ICP备2023015588号