一种新型栅极碳化硅功率器件及其制备方法、芯片

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推荐专利
一种新型栅极碳化硅功率器件及其制备方法、芯片
申请号:CN202511404994
申请日期:2025-09-29
公开号:CN120882061B
公开日期:2026-01-02
类型:发明专利
摘要
本申请属于功率器件技术领域,提供了一种新型栅极碳化硅功率器件及其制备方法、芯片,通过在电流扩展层、P型阱区以及N型重掺杂区上形成有氮化镓层,氮化镓层覆盖P型阱区和电流扩展层,氧化镓层形成于氮化镓层上,高K介质层形成于氧化镓层上,栅极层形成于高K介质层上,从而由氮化镓层、氧化镓层以及高K介质层形成复合栅介质结构,有利于降低器件的导通电阻。
技术关键词
碳化硅功率器件 高K介质层 氮化镓层 电流扩展层 碳化硅衬底 掺杂区 复合栅介质结构 层间介质层 栅极 封闭结构 Ga2O3薄膜 功率器件技术 电极 氧化铪 包裹 芯片 正面 离子 氧化铝
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