一种CMOS兼容的高密度触觉传感器阵列及其制备方法

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推荐专利
一种CMOS兼容的高密度触觉传感器阵列及其制备方法
申请号:CN202511447015
申请日期:2025-10-11
公开号:CN120927161A
公开日期:2025-11-11
类型:发明专利
摘要
本发明涉及触觉传感器技术领域,尤其涉及一种CMOS兼容的高密度触觉传感器阵列及其制备方法,包括:微/纳米结构压力敏感薄膜,包括导电网络和弹性聚合物基底,产生形变信号并产生电流变化信号;CMOS读出集成电路,与所述微/纳米结构压力敏感薄膜电连接,CMOS读出集成电路的像素阵列为640×512,像素尺寸为15×15μm,每个像素均包括中心像素电极和周围接地栅格,用于采集/测量微/纳米结构压力敏感薄膜的电阻变化;信号处理电路与所述CMOS读出集成电路电连接,用于对触觉信号数据进行处理,本申请解决了现有技术存在的分辨率限制、灵敏度不足、集成度低的问题。
技术关键词
触觉传感器阵列 压力敏感薄膜 读出集成电路 纳米结构 聚合物基底表面 高密度 信号处理电路 数据输出接口 像素阵列 金字塔结构 触觉传感器技术 金属纳米线网络 压力传感器阵列 碳纳米管网络 算法模块 多路复用电路 数据更新频率 聚二甲基硅氧烷
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沪ICP备2023015588号