一种待封装芯片、制备方法及半导体器件

下载 AITNT APP
🍎 iOS 下载 🤖 Android 下载
正文
推荐专利
一种待封装芯片、制备方法及半导体器件
申请号:CN202511485051
申请日期:2025-10-17
公开号:CN120955060A
公开日期:2025-11-14
类型:发明专利
摘要
本申请提供了一种待封装芯片、制备方法及半导体器件,待封装芯片包括:初始芯片,所述初始芯片包括顶层金属层;凸块结构,设置在所述初始芯片的顶层金属层之上,所述凸块结构包括第一氧化层、钝化层、第二氧化层和外接金属层,所述钝化层设置在所述第一氧化层和所述第二氧化层之间,所述第一氧化层最靠近所述顶层金属层,所述金属层外接作为所述凸块结构的顶层且连接所述顶层金属层。
技术关键词
封装芯片 凸块结构 氧化层 半导体器件 非金属 蚀刻 接口 电路板
添加客服微信openai178,进AITNT官方交流群
驱动智慧未来:提供一站式AI转型解决方案
沪ICP备2023015588号